薄膜方阻分布测试仪-微纳加工平台

镀膜工艺

磁控溅射电子束蒸发金属电子束蒸发 ITO电子束蒸发热阻蒸发 PECVD LPCVD ALD沉积铜电镀台

标准工艺

典型器件工艺包光刻工艺包深硅刻蚀工艺包化合物ICP刻蚀工艺包电子束镀膜沉积工艺包磁控溅射沉积工艺包 PECVD沉积工艺包 LPCVD沉积工艺包快速退火工艺包

一、信息详情：

设备名称：薄膜方阻分布测试仪

设备型号：R50-200-4PP

设备厂商：Filmetrics（KLA）

工作原理：采用四探针法：四根等距直线排布的探针压到导电薄膜表面，外侧两针通直流电流，内侧两针测电压降，按 Rs = 4.53 × (U/I) 计算方块电阻，并自动扫描整片样品，实现快速、无损的方阻 Mapping

用途：可用于LED、太阳能、半导体晶圆基板、玻璃基板等行业，表征样品薄膜电阻均匀度、薄膜厚度或电阻率

二、技术性能指标：

1.样品尺寸：最大8英寸，向下兼容6/4/3/2寸

2.测试范围：1mΩ/sq-200MΩ/sq

3.测量点重复性（1σ ) <0.02%，测量准确性±0.2%，

4.自动测量软件，可测试圆形/方形，放射性，中心或边缘排除等图案

工 艺 能 力