一、信息详情：

设备名称：EBL电子束曝光系统

设备型号：VOYAGER Max

设备厂商：德国Raith 

工作原理：电子束曝光设备（EBL）利用“热场发射”电子枪产生高亮度、小束斑的电子束，经电磁透镜聚焦成纳米级束斑，再由扫描线圈按设计图形在涂有抗蚀剂的晶圆上逐点扫描曝光，利用电子束的化学效应使光刻胶的抗蚀剂发生链断裂或交联，显影后形成所需纳米图形。

用途：主要用于实现微纳透镜阵列、光波导、微纳图形阵列、光栅等多种纳米图形的生成及制样。

二、技术性能指标：

1. 加速电压50kV

2. 束电流范围为：300 pA到40 nA

3. 扫描频率为50MHz，20bit分辨率

4. 最大写场1000µm

5. 激光干涉台分辨率1nm

6. 配备专业的邻近效应修正软件

7. 束流稳定性: < ±0.2%/h

8. 束位置稳定性: < 250nm/8h

9. 最小线宽: ≤ 50nm

10. 光栅无拼接高速曝光

11. 拼接精度:

500μm写场下，≤50nm (|mean| ± 3 sigma)

1000μm写场下, ≤100nm(|mean| ± 3 sigma)

12. 套刻精度:

500μm写场下，≤40nm (|mean| ± 3 sigma)

1000μm写场下，≤80nm (|mean| ± 3 sigma)